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超細(xì)顆粒表面的不飽和性及表面活性

更新時(shí)間:2020-11-10 點(diǎn)擊次數(shù):1273

 

一、超細(xì)顆粒表面的不飽和性

礦物粉碎時(shí)一般是沿著結(jié)合力弱的方向斷裂,形成斷裂面。斷裂面一般平行于晶格密度大的面網(wǎng)、陰陽(yáng)離子電性中和的面網(wǎng)、兩層同號(hào)離子相鄰的面網(wǎng),或者平行于化學(xué)鍵力強(qiáng)的方向。

 

因此,顆粒表面的不飽和鍵的強(qiáng)弱直接取決于礦物的晶體化學(xué)特征,如晶格類型、斷裂面方向等。

 

二、超細(xì)顆粒的表面活性

隨著超細(xì)顆粒變細(xì),完整晶面在顆??偙砻嫔纤急壤郎p少,鍵力不飽和的質(zhì)點(diǎn)(原子、離子)占全部質(zhì)點(diǎn)數(shù)的比例增加,從而提高顆粒的表面活性。

 

超細(xì)粉碎后,顆粒表面的臺(tái)階、變折、空位等處的質(zhì)點(diǎn)所具有的表面能會(huì)大于平面質(zhì)點(diǎn)表面能。

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